Sebuah senyawa kimia yang marak digunakan untuk membuat monitor layar datar, televisi dan mikrochip ternyata memiliki kemampuan 17.000 kali lebih parah menyebabkan global warming dibandingkan dengan karbon dioksida. Tim peneliti �atmospheric chemist� dari Universitas California-Irvne telah menemukan bahaya zat kimia ini dan mempublikasikannya pada jurnal Geophysical Research Letters.
Zat kimia yang dikenal dengan nama nitrogen trifluoride (NF3) dahulu kala hanya digunakan dalam pembuatan microchip, dengan kuantitas yang kecil dan tidak berbahaya. Akan tetapi pada tahun ini, NF3 dibuat besar-besaran karena dan digunakan pada indutri pembuatan LCD (Liquid Crystal Displays) pada telvisi layar datar dan monitor komputer. Diperkirakan, pada tahun 2010 produksi NF3 mencapai 8.000 ton per tahun, efek pemanasan global yang ditimbulkan dari NF3 sebanyak itu setara dengan 130 juta meter kubik CO2.
�Seiring dengan permintaan akan monitor layar datar, pasar NH3 akan semakin membesar,� tulis Michael J. Prathrt dan Juno Hsu, peneliti yang menyebut NH3 sebagai �missing greenhouse gas�.
NF3 pada mulanya diperkenalkan dalam pembuatan microchip sebagai bagian dari gerakan penanggulangan pemanasan global. Pada tahun 1997, pembuatan microchip masih menggunakan Perflorocarbons (PFCs) kemudian penggunaan PFCs dilarang setelah draft perjanjian internasional Protocol Kyoto ditandatangani. Perjajian tersebut berisi kesepakatan internasional untuk mengurangi produksi 6 gas penyebab utama pemanasan global yakni Carbon dioxide, Methane, PFCs, Nitrous oxide, Hydrofluorocarbons dan Sulfur hexafluoride. Karena pada masa itu produksi NF3 masih dalam kuantitas kecil, NF3 dianggap tidak terlalu penting untuk dituliskan didalam Protocol Kyoto.
Setelah keluar larangan penggunaan PFCs, industri pembuatan semikonduktor memutuskan untuk menggunakan NF3 sebagai pengganti PFCs walaupun telah diketahui bahwa NF3 memberikan efek pemanasan global yang jauh lebih berbahaya. Akan tetapi berita baik yang mereka kemukakan adalah apabila pada masa pembuatan PFCs dua pertiganya lepas ke atmosfer sebagai gas rumah kaca sedangkan pada pembuatan NF3 hanya 2 persen saja dari proses pembuatannya gas tersebut terlepas ke atmosfer.
Peneliti lain menambahkan, walaupun dalam proses pembuatan hanya sebagian kecil saja NF3 yang terlepas, masih ada kemungkinan lain NF3 terbebas ke udara misalnya pada proses trasportasi, penggunaan atau pembuangan. �Kita tidak tahu apakah 1 persen atau 20 persen gas NF3 yang terbebas keudara, tapi sekali kita melepaskannya, kita tidak akan pernah bisa mengurungnya kembali.�
15th April 2011
Gas Rumah Kaca Dalam Pembuatan Microchip
